招标公告
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4英寸低温背景离子刻蚀机
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项目进展
共 2 条公告
当前阶段
招标
项目编号20260262
- 1 采购意向 —
- 招标 11-12
- 3 开标 —
- 4 候选人公示 —
- 5 中标结果 —
- 6 合同 —
-
11-15
2026
变更公告4英寸低温背景离子刻蚀机延期公告 -
11-12
2026
招标公告4英寸低温背景离子刻蚀机 当前查看
关键信息
标的物清单
| 名称 | 规格 | 数量 | 单价 | 金额 |
|---|---|---|---|---|
| 4英寸低温背景离子刻蚀机 | — | 1 | — | 38.5 万元 |
公告正文
| 项目名称 | 4英寸低温背景离子刻蚀机 | 项目编号 | 20260262 | ||||
| 公告时间 | 2026/11/12 10:55 | 报价截止时间 | 2026/11/15 10:55 | ||||
| 联系人 | 成交后在我参与的项目中查看 | 联系手机 | 成交后在我参与的项目中查看 | ||||
| 采购预算 | ￥385,000.00 | ||||||
| 采购单位 | 同济大学 | ||||||
| 送货期限 | 合同生效之日起180日内 | ||||||
| 送货地址 | 上海市杨浦区赤峰路67号同济大学南校区第一实验楼510 | ||||||
| 付款方式 | 货到验收合格付全款 | ||||||
采购清单
1
| 货物名称 | 数量 | 品牌 | 型号 | 预算总价（元） | 质保期 | ||
| 4英寸低温背景离子刻蚀机 | 1 | 不限定品牌 | 不限定型号 | 385000 | 1年 | ||
| 技术参数要求 | 直流考夫曼型离子源：氩离子束物理刻蚀，4吋范围刻蚀不均匀性在5%以内，束压0-1000V束流0-100mA。卧式刻蚀无油真空系统：系统极限真空8×10-5Pa，大气至本地5×10-4Pa时间小于40分钟，工质氩气质量流量计控制。水冷旋转可变角度复合工件台：旋转速度可调，角度可变。背景温度-20～25℃。操作模式：手动+自动 | ||||||
| 售后服务 | 期内免费维修，2小时响应、48小时到场；期外终身维修、优惠配件、终身免费工装夹具加工。 | ||||||
附件和原文
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